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Formation of 300 nm period pore arrays by laser interference lithography and electrochemical etching

Liu, Jia ; Kleimann, Pascal ; Laffite, Guillaume ; Jamois, Cécile ; Orobtchouk, Regis ; Key Laboratory of Electromagnetic Processing of Materials (Ministry of Education) ; Northeastern University [Shenyang] ; Institut des nanotechnologies de Lyon - Site d'Ecully (INL) ; École Centrale de Lyon (ECL) - Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL) - Institut National des Sciences Appliquées Lyon (INSA Lyon) - Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS) ; Institut des Nanotechnologies de Lyon - Site de l'UCBL (INL) ; École Centrale de Lyon (ECL) - Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL) - Institut National des Sciences Appliquées Lyon (INSA Lyon) - Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS) ; Laboratoire de Chimie de la Matière Condensée de Paris (LCMCP) ; Université Pierre et Marie Curie - Paris 6 (UPMC) - Collège de France - Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS) ; PHysicochimie des Electrolytes et Nanosystèmes InterfaciauX (PHENIX) ; Université Pierre et Marie Curie - Paris 6 (UPMC) - ESPCI ParisTech - Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS) ; Institut des Nanotechnologies de Lyon - Site de l'INSA (INL) ; École Centrale de Lyon (ECL) - Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL) - Institut National des Sciences Appliquées Lyon (INSA Lyon) - Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)

ISSN: 0003-6951

HAL CCSD;American Institute of Physics, 2015

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