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X-ray diffraction analysis of thermally-induced stress relaxation in ZnO films deposited by magnetron sputtering on (100) Si substrates

Conchon , F. ; Renault , P. ; Goudeau , P. ; Le Bourhis , E. ; Sondergard , E. ; Barthel , E. ; Grachev , S. ; Gouardes , E. ; Rondeau , V. ; Gy , R. ; Lazzari , R. ; Jupille , J. ; Brun , N. ; Laboratoire de métallurgie physique ( LMP ) ; Université de Poitiers-Centre National de la Recherche Scientifique ( CNRS ) ; Institut Pprime ( PPRIME ) ; Université de Poitiers-ENSMA-Centre National de la Recherche Scientifique ( CNRS ) ; École des hautes études en sciences sociales ( EHESS ) ; Surface du Verre et Interfaces ( SVI ) ; Centre National de la Recherche Scientifique ( CNRS ) ; Sciences et Ingénierie de la Matière Molle ( SIMM ) ; Université Pierre et Marie Curie - Paris 6 ( UPMC ) -ESPCI ParisTech-PSL Research University ( PSL ) -Centre National de la Recherche Scientifique ( CNRS ) ; Surface du Verre et Interfaces ( SVI ) ; Université Pierre et Marie Curie - Paris 6 ( UPMC ) -SAINT-GOBAIN-Centre National de la Recherche Scientifique ( CNRS ) ; Saint-Gobain Recherche ( SGR ) ; SAINT-GOBAIN ; Oxydes en basses dimensions ( INSP-E9 ) ; Institut des Nanosciences de Paris ( INSP ) ; Centre National de la Recherche Scientifique ( CNRS ) -Université Pierre et Marie Curie - Paris 6 ( UPMC ) -Centre National de la Recherche Scientifique ( CNRS ) -Université Pierre et Marie Curie - Paris 6 ( UPMC ) ; Laboratoire de Physique des Solides ( LPS ) ; Université Paris-Sud - Paris 11 ( UP11 ) -Centre National de la Recherche Scientifique ( CNRS )

ISSN: 0040-6090

HAL CCSD;Elsevier, 2010

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